全新立式全谱光谱采用标准的设计和制造工艺技术，采用全数字技术，替代庞大的光电倍增管（ＰＭＴ）模拟技术，采用真空光学室设计及全数字激发光源、ＣＣＤ检测器，高速数据读出系统，使仪器具有高的性能、低的检出线、长期的稳定性和重复性。适用于金属制造业、加工业及金属冶炼业用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的主要设备之一。

M系列全谱直读光谱仪采用标准的设计和制造工艺技术，全数字化及互联网技术结合，运用高分辩率CMOS检测器，精密设计的氩气吹扫系统，使仪器具有更高的性能、更低的成本、以及极具竟争力的价格。

M2可应用于多种材料的分析。

01 小巧、轻便、精致、可靠的仪器结构，具有同类型直读光谱仪优异的分析数据。

02 超小设计的光学室结构及优化设计的氩气吹扫系统，保证紫外区元素谱线的透过率。

03 应用高分辩多CMOS读出系统，更低的暗电流、更好的检出限、更高的稳定性、更强的灵敏度。

04 全数字化的智能复合光源DDD技术，充分满足不同基体、不同样品以及不同元素的激发要求。

05 FPGA数据采集及以太网网络数据传输技术，保证数据一致性及数据传输速率。

06 内置工厂校正曲线及曲线扩展技术，满足不同材料的技术要求。

07互联网网络技术及数据云储存。

08 操作简单、维护成本低、质量可靠。

09 具竟争力的价格。

精密设计的氩气吹扫系统

光室密封性强，可保持内部氩气长期纯净。

光室空间优化设计，降低氩气消耗，有效节约产生成本。

低氩气吹扫系统，确保光室UV波段测量环境。

光室充氩免除复杂的真空系统。

 高分辩率CMOS检测器实现全谱分析

谱线覆盖了所有的重要元素，满足所有基体和材料的分析。

高灵敏的紫外区检测，对N的分析检测更准确。

可有效选择元素灵敏线，保证分析的准确度。

多峰拟合技术，有效消除谱线干扰，实现精准测量