品牌/厂家：Aetoes牌号：Aetoes-Au001材质类型：金属靶材材料名称：黄金规格：直径57形状：圆片方形颗粒管子用途：磁控溅射镀膜蒸发制备工艺：熔炼成份：99.999%材质：贵金属黄金使用用途：薄膜材料镀膜，磁控溅射，蒸发镀膜常见尺寸：直径57*0.1mm 直径50.8*1mm 直径50.8*2mm 直径50.8*3mm 直径50.8*4mm产地：上海、苏州、国外进口材质纯度：99.99%-99.999%
供应高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材Glod(Au)Targets科研及工业必备材料
产品名称： | 高纯黄金及金基合金溅射靶材 |
牌号规格： | Au01、Au1、AuGe12、AuGeNi11.5-5、AuGeNi12-4、Au80Sn20 |
用途备注： | 金、金锗、金锗镍等溅射靶材通过磁控溅射工艺沉积在半导体芯片如GaAs、GaP、GaN等表面，形成欧姆接触膜、电极和连线膜。可形成多种金属化膜系统。 |
产 品 详 情
高纯贵金属金及合金是制造半导体芯片的关键基础材料。使用金靶材将金膜沉积在半导体芯片表面，形成欧姆接触膜、电极和连线膜，可形成多种金属化膜系统。该金属氧化膜系统可大量应用于制造发光二极管（LED），
军用和民用微波通信器件，航天、航空等重要领域用半导体化合物以及芯片太阳能电池等领域。
化学成分
序号 | 合金牌号 | 主成分 |
Au | Ge | Ni | Ga | Be |
1 | Au1 | ≥99.99 | | | | |
2 | Au01 | ≥99.999 | —— | —— | —— | —— |
3 | Au88Ge | 88±0.5 | 余量 | —— | —— | —— |
4 | Au83.5GeNi | 83.5±0.5 | 余量 | 5±0.4 | | |
备注：可按客户要求提供其它成分的产品。 |
外形尺寸(mm) |
合金牌号 | 形状 | 规格 | 允许偏差 | 厚度 | 允许偏差 |
Au1、Au01 | 圆形 | 100-250 | ±0.1 | 3～6 | ±0.2 |
方形 | 127×381 | ±1 | 3～6 | ±0.2 |
AuGe12、Au83.5GeNi、 | 圆形 | 100-250 | ±0.3 | 6 | ±0.5 |
方形 | 127×381 | ±1 | 6 | ±0.5 |
备注：可供其它规格和允许偏差的产品。 |
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