品牌/厂家：大洋金属牌号：TA1材质类型：金属靶材材料名称：钛规格：95*45形状：圆柱用途：镀膜制备工艺：溅射成份：Ti技术标准：GB/T 2965钛含量：99.8%用途：溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业杂质含量：0.01%镀膜优势色：金黄色/枪黑 色 蓝色/玫瑰红
area class="lazyLoad">产品详情
产品名称：高纯度钛靶
牌号：TA1
钛含量：99.8%
杂质含量：0.01%
规格：95*45mm
镀膜优势色：金黄色、枪黑色、蓝色、玫瑰红
形状：圆柱形
靶材的主要性能要求: 纯度 纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。 杂质含量 靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。 密度 为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。 晶粒尺寸及晶粒尺寸分布 通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。
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本公司是专业从事钛及钛合金、难熔、稀有等有色金属材料加工、生产、开发、销售为一体的综合性企业。公司依托“中国钛城”的强大综合实力进行高效的资源共享；具备得天独厚的地域、材料、科研优势，为用户提供优质的产品。 加工材料类：钛及钛合金板、棒、丝、管。 制品类：钛及钛合金阀、法兰、标准件、各类非标钛制品等。 难熔类：钨、钼、钽、铌、锆、铪、镍材料及其制品的生产与销售。
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