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光刻胶 显影液 剥离液去膜剂 AZ400K AZ300MIF 安智AZ 现货
2019-06-05 01:01781
信息概况
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深圳市启耀光电有限公司
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品牌：型号：AZ6112 AZ6130批号：安智AZ封装形式：SMD类型：模数结合集成电路用途：通信功能：单片机导电类型：单极型封装外形：金属壳圆形型集成度：中规模50~100工作电源电压：现货供应 光电实验室 正性 负性 聚酯型 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 宽膜厚V最大功率：现货供应 光电实验室 正性 负性 聚酯型 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 宽膜厚W工作温度：现货供应 光电实验室 正性 负性 聚酯型 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 宽膜厚℃外形尺寸：现货供应 光电实验室 正性 负性 聚酯型 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 宽膜厚mm加工定制：是公司：深圳启耀光电area class="lazyLoad">现货供应大学研究所 正性 负性 电子信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高感光度
现货供应中科院 正性 负性 干膜 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高产出率
现货供应 研究所 正性 负性 报告 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 干法刻蚀
现货供应 光电实验室 正性 负性 聚酯型 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 宽膜厚
现货供应光电所 正性 负性 信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 成分稳定



大学研究所 正性 负性 厚浆 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 现货供应 附着性好
供应中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 现货 湿法刻蚀
成份稳定 光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 现货供应    
现货供应 光电所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 可靠性高
研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 应用广泛 现货供应



供应大学研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用 稳定现货
现货 中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 附着性好 供应
现货供应光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 干法刻蚀，湿法刻蚀
现货供应 研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用
光电所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 刻蚀工艺 应用广泛 现货供应



现货供应 大学研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 分辨率高
中科院 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 高纵宽比 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 现货供应
供应 光电实验室 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ 现货 AZ50XT AZ10XT 附着性好
现货供应 光电所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 电镀工艺高耐受性
现货供应 研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 凸点UBM工艺



现货供应大学研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 G线I线通用
现货供应中科院 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高感光度
现货供应光电实验室 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高产出率
现货供应研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 干法刻蚀
现货供应光电所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 成分稳定



现货供应大学研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E
现货供应中科院 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 分辨率好
现货供应光电实验室 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 宽膜厚范围
现货供应光电所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 正/负反转
现货供应研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 可靠性高



现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高对比度
现货供应中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高感光度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 成分稳定
现货供应光电所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 论文验证
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 附着性高



现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高对比度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高感光度
现货供应光电所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 附着性高
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 论文验证
现货供应中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 应用广泛



现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 高对比度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 高感光度
现货供应光电所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 附着性高
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 论文验证
中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 应用广泛



现货供应光刻胶 显影液 剥离液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
现货供应厚膜正型光刻胶 显影液 剥离液 AZ400K AZ300MIF 适用各种显影工艺
现货供应光刻胶 Puddle工艺 显影液 腐蚀剂 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
现货供应光刻胶 Dip工艺 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 去除 无需表面活性剂
现货供应大学研究所 光刻胶 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 显影效果好
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